设备名称：电感耦合等离子体深硅刻蚀机

设备简介：该设备通过电感耦合（ICP）方式产生高密度等离子体，按掩膜图形、实现对硅基材料的各向异性干法刻蚀。

设备名称：铌酸锂刻蚀机

设备简介：NLD(neutral loop discharge，磁中性环路放电)较ICP而言，可在真空腔内形成高频电场，并由此产生等离子体。通过改变电流大小可以控制等离子体的直径及密度，所以具有高刻蚀速率、高均匀性、高等离子体密度及低压放电等优点。可获得高深宽比、高速率和选择比的刻蚀结果。

设备名称：等离子清洗机（一）

设备简介：PVA TePla America LLC IoN 40 是一款桌面式射频（RF）气体等离子体反应器，支持批量晶圆及异形样品的清洗、刻蚀与表面改性，可接入多种工艺气体与真空泵，广泛应用于半导体、LED、MEMS 与生命科学领域。

设备名称：等离子清洗机（二）

设备简介：Striper-100是一台射频（RF）气体等离子体反应刻蚀机（RIE），支持批量晶圆及异形样品的清洗、刻蚀与表面改性，可接入多种工艺气体与真空泵，广泛应用于半导体、LED、MEMS 与生命科学领域。