清洗 首页 > 研发体系 > 创新支撑平台 > 设备介绍 > 清洗 设备名称:甩干机设备简介:甩干机是半导体晶圆在湿法清洗后,用于快速、均匀去除晶圆表面残余液体的关键辅助设备,通过高速旋转产生离心力,将晶圆表面的清洗液甩出,同时在旋转过程中结合氮气吹扫,实现低颗粒污染的晶圆干燥。 设备名称:RCA清洗机设备简介:RCA清洗机是用于半导体制造过程中的湿法清洗设备,主要用于去除晶圆表面的有机污染物、金属离子和颗粒等杂质。 设备预约请点击:https://noefab.pku.edu.cn/jxky/gk.htm